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  1. KEILUV3示例1

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  2. KEIL C51 最新版编译器UV3 V8.01程序例子1-KEIL C51 latest version V8.01 compiler Lithography example of a procedure
  3. 所属分类:单片机(51,AVR,MSP430等)

    • 发布日期:2008-10-13
    • 文件大小:22929
    • 提供者:王明亮
  1. LCM_PROGRAM_IN_C51

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  2. 8051单片机控制液晶显示模块的程序。用的是北京青云创新LCM24064ZK(自带汉字库),开发环境是KEILC51 UV3。-8051 LCD module control procedures. Beijing is using innovative LCM24064ZK Albatron (own Store). the development environment is KEILC51 Lithography.
  3. 所属分类:嵌入式/单片机编程

    • 发布日期:2008-10-13
    • 文件大小:1242463
    • 提供者:kukata
  1. airPortSimulation

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  2. 金元平版数据结构 实验答案 有关飞机场内容的实验-money lithography experimental data structure answers the contents of the airport
  3. 所属分类:数据结构常用算法

    • 发布日期:2008-10-13
    • 文件大小:5027
    • 提供者:王浩
  1. myprogam

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  2. ds18b20相关程序 单点温度读取 64位光刻序列读取-ds18b20 related procedures single point temperature read 64 lithography sequence read
  3. 所属分类:编译器/词法分析

    • 发布日期:2008-10-13
    • 文件大小:22027
    • 提供者:车恒川
  1. keil uv3

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  2. 这个UV3是正式版. 不像网上传的那样,在98下运行就出错. 这个版本是:3.03 是从DKARMV12A中拷出来的. 我一直都在用,好用着.-Lithography is the official version. Unlike Internet-in the case of 98 mistakes on the run. This version is : 3.03 from DKARMV12A which beat out. I have been in use and ease of u
  3. 所属分类:单片机(51,AVR,MSP430等)

    • 发布日期:2008-10-13
    • 文件大小:1393848
    • 提供者:中国韩
  1. Keilv801.rar

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  2. keil c 801最新版本,UV3,希望大家喜欢。,c latest version of Lithography, hope you like them.
  3. 所属分类:SCM

    • 发布日期:2016-10-22
    • 文件大小:24560988
    • 提供者:张爹
  1. book_code

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  2. 本书是Windows程序设计 张铮,王艳平版的源码,内容详尽,代码清晰。是学习次数的朋友不可或缺的工具-This book is Windows programming Zheng Zhang, Wang lithography source of detailed, clear code. The number of friends is an essential learning tool
  3. 所属分类:Windows Develop

    • 发布日期:2017-06-02
    • 文件大小:14678496
    • 提供者:于喜亮
  1. lithograph

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  2. Lithgraphy process, calc, matlab. pertains to process of lithography-Lithgraphy process, calc, matlab. pertains to process of lithography
  3. 所属分类:Mathimatics-Numerical algorithms

    • 发布日期:2017-04-05
    • 文件大小:9762
    • 提供者:EM O
  1. usbd12

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  2. -wire 总线是Maxim公司的产品,能实现在一根数据总线双向传输数据,其特有的64位全球唯一的光刻标识,使得一根数据总线上能挂接多个一线设备而无冲突,便于进行大规模的布点测控,使系统布线更方便,并最大限度的节省通信线的数量,但其独特的一线式通信协议,使其不能直接接入微机系统,而必须进行转换。硬件设计主要完成两个方面的设计,一是利用PC 机串行口供电的设计,另一是RS-232 电平到TTL电平转换的设计,硬件电路 --Wire bus is Maxim' s products, ca
  3. 所属分类:Embeded-SCM Develop

    • 发布日期:2017-03-31
    • 文件大小:85074
    • 提供者:mugua
  1. IC-Integration_of_non-packaging_system

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  2. 本研究项目针对手机、 M P4 等便携式电子产品对 I C芯片的高密度封装需求, 采用最新的国家发 明专利 ‘裸芯片积木式封装方法’, 将在同一块印制板上的集成电路裸芯片像积木一样挤紧嵌入在 PC B中, 用半导体光刻工艺进行芯片间以及芯片和 PC B间的直接平面互连, 完成电子整机板的制造过 程。 采用该方法可使电子整机芯片模板的体积缩小 5 到 20 倍。 本文对该项专利发明的研究内容、 技术 创新点、 工艺实施方案及典型应用等进行了较详细的介绍。-The research
  3. 所属分类:SCM

    • 发布日期:2017-04-16
    • 文件大小:178051
    • 提供者:Iguodala99
  1. CDCTOBMP

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  2. 根据CDC内存中的内容,生成黑白点阵的位图,适用于条码生成打印,光刻机WMF文件,LED屏显等-According to CDC contents of memory to generate bitmap black and white dot matrix, barcode generation for printing, lithography WMF file, LED screen display, etc.
  3. 所属分类:Special Effects

    • 发布日期:2017-04-06
    • 文件大小:29084
    • 提供者:opencv
  1. 3

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  2. very important part in vlsi fabrication. Lithography proce-very important part in vlsi fabrication. Lithography process
  3. 所属分类:Project Design

    • 发布日期:2017-04-07
    • 文件大小:790920
    • 提供者:kaushi
  1. ngso

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  2. 投影光刻机对准系统功能原理简单介绍了对准系统和机构的基本功能和原理-Projection lithography alignment system features a brief introduction to principles and institutions on the system' s basic functions and principles
  3. 所属分类:software engineering

    • 发布日期:2017-03-31
    • 文件大小:6983
    • 提供者:mmm
  1. wer1

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  2. 高数值孔径光刻中衬底反射率的控制.In high numerical aperture lithography substrate reflectivity control-In high numerical aperture lithography substrate reflectivity control
  3. 所属分类:Mathimatics-Numerical algorithms

    • 发布日期:2017-04-01
    • 文件大小:736096
    • 提供者:
  1. Planar-integrated-optical-vector-matrix-multiplie

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  2. We present the design of a planar-integrated optoelectronic vector-matrix multiplier. The inherent parallel-processing potential is fully exploited by optical implementation of multiplications and summations. Planar integration makes the free-spa
  3. 所属分类:Communication

    • 发布日期:2017-05-11
    • 文件大小:2692954
    • 提供者:sf
  1. StL

    0下载:
  2. 3D 模型 STL (STereo Lithography) 文件格式解析-3D Model file, STL (STereo Lithography) File format parser
  3. 所属分类:File Operate

    • 发布日期:2017-04-14
    • 文件大小:3901
    • 提供者:Eison
  1. rsoft-manuals

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  2. Synopsys’ RSoft products are used to design and analyze optical telecommunication devices, optical components used in semiconductor manufacturing, and nano-scale optical structures. They enable engineers to design and optimize the optical components
  3. 所属分类:software engineering

    • 发布日期:2017-06-18
    • 文件大小:27361329
    • 提供者:gao
  1. Source-image-of-contacts

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  2. microscope photo of electrodes mnodified by lithography
  3. 所属分类:File Formats

    • 发布日期:2017-05-03
    • 文件大小:984112
    • 提供者:Master
  1. 4组掩膜版文件

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  2. 14*14mm 光刻掩膜版 mems微米纳米概论 正光刻(14 * 14mm lithography mask mems micro-nano Introduction Positive Lithography)
  3. 所属分类:其他

    • 发布日期:2018-01-03
    • 文件大小:50176
    • 提供者:大白牙大
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